2025年8月5日，璞璘科技在其官方发文，宣布已于8月1日成功交付中国首台半导体级步进式纳米压印光刻系统——PL-SR。

这标志着我国在纳米压印光刻设备领域实现重大突破，也意味着打破了在该领域长期主导市场日本佳能的垄断。

8月8日，上海芯上微装科技股份有限公司（简称“芯上微装”或“AMIES”）举办了第500台步进光刻机交付仪式，充分展现了AMIES作为国产步进光刻机领军企业的自主创新实力，标志着我国高端半导体装备产业迈上新的台阶。

当全球半导体产业迎来新一轮景气周期，光刻机作为"芯片工业皇冠上的明珠"，正在上演令人振奋的国产替代故事。2025年最新行业数据显示，在国家大基金三期3440亿元重磅加持下，中国光刻机产业链正迎来历史性突破窗口期。

1.富乐德

全球工业清洗系统市占率 92.78%，半导体级高精度清洗设备打破德国杜尔垄断，切入中芯国际.光刻前道清洗直接决定晶圆良率，公司设备颗粒去除率＞99.9%，精度达纳米级。国内唯一全链条清洗解决方案商，2024 年经营现金流净额激增 104 倍，验证商业化突破。

2. 茂莱光学

全球高精度光学器件龙头，产品覆盖光刻机物镜组、棱镜、平片等核心部件，技术精度达纳米级，部分产品通过 ASML 认证。28 纳米 DUV 光刻机物镜组面形精度达 λ/20（λ=193nm），国内市占率超 60%，替代德国蔡司产品。参与中科院 EUV 光源原型机开发，衍射光学元件技术适配未来 High-NA EUV 光刻机需求。

3.福晶科技

全球最大非线性光学晶体（LBO、BBO）供应商，市占率超 60%，产品用于光刻机激光光源系统，参与国产 EUV 光源原型机开发。LBO 晶体用于 ArF 光刻机 193nm 波长激光产生，BBO 晶体适配 KrF 光刻机 248nm 光源，技术壁垒极高。中科院 EUV 光源效率达 3.42%（接近商用水平），公司作为核心材料商将迎爆发期。

4.东微电子（未上市，关联A股：上海电气）

自研直线电机通过中芯国际、长鑫存储认证，解决光刻机“卡脖子”运动平台难题。攻克磁极阵列优化技术，媲美荷兰Tecnotion产品，2025年产能规划覆盖国产光刻机70%需求。

5.苏大维格

光刻机定位光栅核心供应商，打破ASML对高精度光栅的垄断。其纳米压印技术可用于芯片制造，替代传统光刻，已在Micro LED领域量产。

6.江丰电子

全球高纯溅射靶材龙头，产品用于光刻机掩膜版镀铬层，MoRu 靶材纯度达 99.999%，打破日矿金属垄断。掩膜版占光刻成本 15%-20%，公司靶材适配 28nm 制程，国产替代率从 5% 提升至 20%。全球首发 99.999% 纯度钼钌（MoRu）靶材，用于 ArF 光刻机掩膜版制造，客户覆盖中芯国际、台积电。

7.波长光电

光刻机平行光源系统，在半导体应用领域，公司已具备提供光刻机配套的大孔径光学镜头的能力。公司成功开发的光刻机平行光源系统可用于国产光刻机领域配套，并已交付多套系统用于接近式掩膜芯片光刻工序

8.冠石科技

国内唯一实现45nm掩膜版量产。首台电子束掩膜版光刻机进场，2025年产能将达1.25万片/年，覆盖70%成熟制程需求。掩膜版占芯片制造成本15%，此前日美垄断90%市场，国产替代后单片区净利润可达3万元。

9.飞凯材料

国内唯一实现KrF光刻胶量产的民营企业，2025年新建产能投产，预计市占率突破30%，大基金二期战略入股，专项用于ArF光刻胶研发（当前处于客户验证阶段），封装用环氧塑封料打入长电科技、通富微电供应链，受益先进封装技术迭代。

10. 凯美特气

国内唯一通过 ASML 子公司 Cymer 认证的光刻气供应商，产品纯度达 99.9999%，支撑 KrF/ArF 光刻机光源系统。光刻气是光源系统核心耗材，全球市场规模超 20 亿美元，国产替代空间达 70%。纯度控制达 7N 级（杂质≤1ppm），验证周期长达 2 年，公司是国内唯一通过 ASML 认证的厂商。

11.同飞股份

浸没式光刻机液冷系统核心供应商，液流稳定性超越荷兰Hittech，2025年签订上海微电子5年独家供货协议，合同金额超15亿元，数据中心液冷市占率35%，受益AI算力需求爆发。

12.蓝英装备

全球唯一为ASML提供EUV清洗设备的企业，同时供货中微公司、北方华创。超临界CO₂清洗技术可去除3nm级颗粒，解决先进制程污染控制难题。

13.洪田股份

国内高端电解铜箔设备龙头，市占率超70%，核心客户包括宁德时代、比亚迪等头部电池厂商。2025年成功研发复合集流体一体化设备，单台价值量突破8000万元，获宁德时代20亿元战略订单。大基金三期重点扶持企业，氢能电解槽设备进入隆基绿能供应链。

14.芯源微

国内唯一实现28nm涂胶显影设备量产，2025年新一代设备支持14nm工艺，填补国产空白。涂胶显影设备占光刻配套系统成本的35%，国产化率不足5%。

15.上海新阳

12英寸大硅片通过中芯国际验证，2025年产能达30万片/月，干法光刻胶打破日本JSR垄断，已用于长江存储128层NAND生产，参股子公司新昇半导体获华为哈勃投资，估值两年增长8倍。

16.炬光科技

提供光刻机曝光系统里面核心元器件光场匀化器，产品最终应用于全球高端光刻机生产商，国家技术创新示范企业，是全球最大半导体设备制造商荷兰 ASML 光学设备核心供应商A公司的重要供应商

17. 上海电气

整机制造国家队，提供光刻机整机研发的资金、技术及产业链资源整合。旗下上海微装布局半导体前道检测设备，获中芯国际批量订单，国产替代率有望突破30%。

18.晶方科技

公司下属荷兰ANTERYON公司服务国际领先光刻机厂商，部分产品运用于光刻机部件；公司是国内首家、全球第二大能为影像传感芯片提供WLCSP量产服务的专业封测服务商。

19. 大族激光

国内激光设备龙头，固体激光器技术参数（平均功率＞170W、脉宽＜8ps）与 EUV 光源需求高度契合。上海光机所 EUV 光源实验平台采用固体激光驱动技术，大族激光有望成为核心供应商。

20. 奥普光电

长春光机所控股企业，生产超精密光栅编码器（定位精度 0.08nm），应用于上海微电子光刻机双工件台系统。对标荷兰 ASML 的 RENISHAW 编码器，精度差距缩至 10% 以内，国产光刻机核心瓶颈突破。光栅技术源自航天卫星姿态控制领域，可靠性达军工级标准，适配高端光刻机需求。

21. 海立股份

国内制冷压缩机龙头，为上海微电子光刻机提供高精度温控模块，2025 年 Q1 净利润预增 625%-756%，业绩弹性冠绝板块。唯一供应上海微电子光刻机冷却系统，技术指标对标 ASML，确保光源稳定性（温度波动＜0.1℃）。光刻机温控系统长期依赖德国卡尔斯鲁厄理工学院技术，公司实现 100% 国产化突破。

22.强力新材

公司的主营业务是电子材料领域，各类光刻胶专用电子化学品和绿色光固化材料的研发、生产和销售及相关贸易业务；公司主营业务包括电子材料、绿色光固化材料和半导体先进封装材料。

23. 腾景科技

光学系统核心供应商，产品进入上海微电子供应链，用于光刻机光路控制。2025年一季度营收同比增长20.6%，产品覆盖光通信与半导体双领域，光模块需求爆发与光刻机国产替代形成双重驱动。

24. 中微公司

刻蚀设备与光刻机工艺高度协同，公司 5nm 刻蚀机已进入台积电供应链，技术对标应用材料。市场传闻上海微电子可能借壳中微公司实现上市，若整合落地，将形成 "光刻机 + 刻蚀机" 的全链条解决方案。

晶瑞电材

公司主营业务是高纯化学品、锂电池材料、光刻胶、工业化学品和能源的研发、生产和销售；公司是国内电子材料龙头企业，深耕半导体和新能源两个应用领域。

26.富创精密

全球少数能量产 7nm 工艺半导体设备精密零部件的企业，产品覆盖光刻机真空腔体、气体传输系统等，国产化率从 2021 年的 7% 提升至 2025 年的 20%。2025Q1 光刻机相关订单同比增长 120%，客户包括中芯国际、长江存储。

27.金力泰

超微弧氧化技术应用于光刻机零部件，耐腐蚀性提升10倍，子公司为上海微电子二级供应商。

28.美埃科技

提供最高洁净等级标准的设备，国外企业供应商白名单，公司为上海微电子开发28纳米光刻设备所需的空气净化产品，打破国外垄断

29. 张江高科

作为上海微电子（SMEE）第一大股东（持股比例 10.77%），张江高科深度参与国产光刻机整机研发与产业化。上海微电子是国内唯一可量产 DUV 光刻机的企业，2025 年计划交付 10 台以上 28 纳米设备，产能利用率超 90%。上海微电子 90 纳米光刻机已量产，28 纳米浸没式研发加速，直接受益于中芯国际、华虹半导体扩产订单。通过张江科学城集聚福晶科技、茂莱光学等核心供应商，形成 “研发 - 制造 - 应用” 闭环生态。

30.新莱应材

主营洁净应用材料和高纯及超高纯应用材料的研发、生产与销售，公司真空产品的AdvanTorr品牌以及气体产品的NanoPure品牌均可以应用到光刻机的设备中。